中国大陆想自力打造光刻机,ASML华裔工程师的看

发布于:2020-11-07  |   已聚集:人围观

  来源 | 太初之道

  美国对华为实施出口管制,凸显中国半导体产业技术和制造设备的窘境。华为创办人任正非日前造访中国科学院,传出华为将与中国科学院合作,并能在先进的极紫外光刻(EUV)技术上有所突破。但1名任职荷兰艾斯摩尔(ASML)、且投入EUV开发的华裔工程师近日发文表示,这简直是「天方夜谭」!

  这名工程师在网路发文指出:「先别提把极紫外光刻机EUV给造出来,就是把EUV给用好都是一件无比复杂的事情,台积电算是我们的客户,我很佩服台积电的工程师或者说他们整个的体系。他们对光刻机的使用技巧达到了某种让人钦佩的高度。」

  该工程师坦言,中国大陆若有这个钱重新在国内建立起1家像台积电一样的公司,还不如用这个钱直接收编台积电;从成本上来看,后者很可能更加便宜。台积电这种巨无霸如果不是遇到芯片制造的重大革命,或者其他危机,中国大陆企业很难超越!

  该工程师说,所以中国要造新型EUV光刻机并不是中国单挑美国,而是中国要单挑外国,因高性能的滤光片,对极端紫外线高反射率的镀膜,耐用的商业雷射机……没有一个是中国自己能够造出来的,没有这些基础器件,而有关国家又对中国封锁,谈造EUV光刻机就是天方夜谭!

  中国大陆想自力打造光刻机,ASML华裔工程师的看法,令人担忧……

  他表示,造光刻机跟造航母不一样,航母并没有在全球的产业链裡面,而光刻机是全球产业链整合出来的产品,针对中国的技术封锁如果没有松动,需要重复做的事情太多,绝非十年二十年,靠中国单打独斗能成的;如果有人还觉得市场、钱、政策能够大跃进式地造出光刻机,那就是绝对错误的认识。

  该工程师说,如果技术不革新,中国想在EUV上后来居上几乎做不到。至于台积电,它是能够熟练使用EUV的厂商,如果中国半导体代工企业都没有EUV可用,在10年内、20年内、甚至100年内都很难超越台积电。

  延伸阅读:

  来源 | 芯智讯

  对于中国光刻机未来的发展,近日一位自称是ASML华裔工程师的网友在网上发表了自己的看法。以下为原文:

  大陆的半导体代工企业大概什么时候能超过台积电?这个问题是说十年内,二十年内还是一百年内?

  我目前就在ASML公司工作,做的就是最新一代的EUV光刻机。这么说吧,咱们先别说把(EUV)光刻机给造出来,就是把(EUV)光刻机给用好都是一件无比复杂的事情。

  台积电算是我们的客户,我很佩服台积电的工程师或者说他们整个的体系。他们对光刻机的使用达到了某种让人钦佩的高度,多的东西涉及到保密不能谈。

  打个比方,如果台积电是美国海军拥有十艘十万吨级核动力航母,中国芯片制造商大概就是中国海军,而且是在辽宁舰未拖进港时期的中国海军。你说中国会不会有朝一日造出十万吨级别的核动力航母?这个当然有可能,但是什么时候能造出来,这个真的不好说,需要天时地利人和都具备了才行。这些条件包括或者可能包括:

  国家要下大决心,要做好十几年甚至二十年一直亏钱的准备;外部技术封锁要有些松动(包括各种光学器件、光刻机、光刻胶等等……);要有一流人才愿意给中国效力(比如钱学森这种大牛);需要大量从业的工程师来进行过渡;三星、Intel,台积电的某一家要出一个大问题,倒闭或者破产,这样能让出市场份额,给予中国大陆公司发展机会;新技术恰好在国家大力投入的时候兴起(实现弯道超车);

  讲句心里话,有这个钱重新在中国大陆建立起一家台积电一样的公司,还不如用这个钱直接收编台积电。从成本上来看,后者很可能更加便宜。

  要我说,台积电这种巨无霸如果不是遇到芯片制造的重大革命,或者其他危机,中国大陆企业很难超越!

  我总有一种朦朦胧胧没有根据的感觉,我觉得未来的芯片很可能不是硅片,而是碳,是石墨烯的某种应用。

  所以,如果从大的笼统的方面来说,中国用新的芯片制造技术超越台积电还是可能的。

  大家可能对所谓芯片制造不太了解。这么说吧,如果欧洲一夜之间蒸发了,美国想要重新造出性能相似的光刻机来,至少需要五年!

  所以中国要造新型EUV光刻机并不是中国单挑美国,而是中国单挑外国!别的不说,高性能的滤光片,对极端紫外线高反射率的镀膜,耐用的商业激光器……没有一个是中国自己能够造出来的!更确切的说,不是中国造不出来,而是美国有很多也造不出来!

  镀膜、滤光片、半反半投镜……这些技术低性能也就罢了,高性能的产品都是一年一年试出来的,欧洲起步早,试验的多就是世界最强!

  中国起步晚,短时间内就是造不出来。因为,没有这些基础器件,谈造EUV光刻机就是天方夜谭!

  所以造光刻机跟造航母不一样,航母并没有在全球的产业链里面。而光刻机是全球产业链整合出来的产品。针对中国的技术封锁如果没有松动,需要重复做的事情太多,绝非十年二十年,靠中国单打独斗能成的。假如大家还觉得市场、钱、政策能够大跃进式地造出光刻机,那就是绝对错误的认识。我觉得吧,承认某些东西自己确实不行,努力也不行,需要外国帮助,也不是什么坏事。盲目乐观才会断送自己的前程。

  当然EUV作为新一代的技术能够实现7nm、5nm的光刻,虽然更加先进,但是如果真的台积电被迫不能给中国代工,我们依然可以使用老一点的技术。使用老一点的技术也足以保证国内正常的需要。这也是为什么国家在这个领域没有那么大的动力和决心的一个原因。

  总之呢,EUV光刻机可以看作是美元霸权的衍生品。美元霸权还在,中国就无法在这一领域取得重大突破。当且仅当EUV光刻机所需的基础配件能够自由进口到中国的时候,中国才有可能在这个领域有突破。

  最后,我再强调一个概念!可以商用化的产品跟实验室里能够实现之间差了十万八千里!实验室里实现的意思是不考虑成本,不考虑稳定性,能够有那么一次或者两次做成。

  商用产品的概念是:稳定、高效、可控、能赚钱!

  就EUV光刻机来说,中国做得最好的大概是长春光机所,也就是搭建了一套实验室的EUV光源设备,而且从技术的实现来看,他们选择了另外一条技术路线,EUV输出的可控性必然不足,商业化依然有巨大瓶颈。至于ASML现阶段的技术,就算中国造出一模一样的东西来,还有专利的麻烦在那里,要规避这一堆专利而商业化几乎做不到。

  这东西跟航母、战斗机不一样。航母,战斗机你就算仿造别人的也没法起诉侵犯专利。光刻机你要是用同样的原理,光是赔专利侵权就要倾家荡产。

  总之呢,如果技术不革新,这一块儿中国想要后来者居上几乎做不到。至于台积电,它是使用EUV光刻机的厂商,如果大陆都没有EUV光刻机可用,谈什么超越台积电呢?

  (思进注:本文仅代表原作者个人观点,不构成投资建议,更并不代表本号立场。文中的论述和观点,敬请读者注意判断……)

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